缩写名/全名 |
CHEM VAPOR DEPOS
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
ISSN号 | 0948-1907 |
研究方向 | 工程技术-材料科学:膜 |
影响因子 | 2015:1.789, 2016:1.333, 2017:2.227, 2018:, 2019:, |
出版国家 | GERMANY |
出版周期 | Bimonthly |
年文章数 | 0 |
出版年份 | 0 |
是否OA | No |
审稿周期(仅供参考) | >12周,或约稿 |
录用比例 | 容易 |
投稿链接 | |
投稿官网 | http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862 |
h-index | 55 |
CiteScore | |
PubMed Central (PMC)链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0948-1907%5BISSN%5D |
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